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Chapitre 805: 第810章 国产光刻机巨头的成长

1993年9月,0.5微米工艺制程的国产光刻机研发成功,并且,已经一开始小规模的推广。当然了,一开始仅有新创业半导体公司和骊山半导体公司,两家公司各自购买了一台。这倒不是因为0.5微米光刻机昂贵的问题,更关键的是,0.5微米的光刻机的产能还是比较慢的。宣布研发成功时,一共三台,一台是内部继续改进使用,一台卖给了骊山半导体,一台卖给了新创业半导体。

  之后,预计两个月能生产一台0.5微米的光刻机,一年能生产6台。想要提升生产速度,则是需要时间,相关产业渐渐跟上了发展,能更高效率的供应零部件。

  四年前,也是林蒙科技公司,在1微米光刻机项目上,填补了国内的空白。

  在一开始,国产的1微米光刻机,也并不比进口的光刻机便宜,每台售价1亿人民币,大致上价值1500万美元一台。加上其他的配套设备,1微米工艺级的芯片工厂,投入高达2亿人民币以上。跟欧美和日本的同行相比,设备一开始并没有优势。甚至,由于欧美和日本一微米工艺普及的比较早,生产线比国内自主研发的1微米生产线更便宜。

  当然了,海外进口的先进设备,更便宜是建立在国内能够自己研发和生产1微米工艺生产线的基础上。

  如果,国内不具备1微米工艺生产能力的话,别说是更便宜的价格进口设备,别人肯不肯卖都是两码事。

  但在几年前,欧美和日本的光刻机厂商,想要把1微米光刻机卖给中国,是需要搞定一堆的政治上的壁垒,毕竟,国际上是有各种的技术壁垒,禁止高端先进的技术和设备,向中国销售。这些高端技术和设备的禁售,其实对于中国有志于从事相关行业的公司而言,是天大的喜讯。比如,林蒙科技公司建立在中国,最大的好处就是,欧美和日本等等公司,限于国际上一堆的对中国技术封锁的禁令,很难最快速度将最先进的产品卖到中国市场。


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